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Q. 삼성전자 공정기술 산화물 반도체 PVD Sputtering
삼성전자 메공기 취준생입니다. 실습때 산화물 반도체인 IGZO를 RF Magnetron Sputtering을 이용하여 증착한 경험이 있어서 이것을 어필하려고 하는데 CVD를 타겟해야할지, Metal을 타겟해야할지 잘 모르겠습니다. CVD을 지원하자니 CVD로 증착한 경험이 아니고, Metal을 지원하자니 Metal을 증착한게 아니여서 고민입니다. 현직자분의 의견이 궁금합니다.
2026.03.16
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